中微半导体设备(上海)股份有限公司2日迎来成立20周年纪念日，并于临港产业化基地隆重举行“20周年盛会华章暨临港基地落成庆典”。
中微公司临港产业化基地占地约157亩、总建筑面积约18万平方米，配备行业领先的实验室、业界高标准的洁净室、先进的生产车间及智能化立体仓库等设施，可实现生产全程数字化、智能化管理，从而为公司进一步强化生产能力、研发能力和科技创新水平提供了有力支撑。
从2004年一张白纸开始的初创公司，成长为2019年首批科创板上市企业；从当初一支仅有15人的创业团队，逐渐成长为如今全球员工超过两千人的规模；从张江高科技园区内一间不起眼的办公室，逐步发展为厂房和办公楼面积即将达到45万平方米的规模；从起步阶段在技术领域不断探索尝试，到拥有两千余项授权专利、技术能力；从2007年首台刻蚀设备、薄膜设备研制成功并运往国内客户，到2024年公司累计已有超5000个反应台在国内外130多条生产线实现量产和大规模重复性销售，中微公司在二十年坚韧不拔的发展过程中，持续追求技术创新和卓越运营，深刻诠释了“攀登勇者，志在巅峰”的中微精神。
二十年来，中微公司在不断攀登高峰的路上成果颇丰。公司在科学技术、客户满意度、知识产权、质量认证等领域获得众多赞誉，累计荣获百余项知名奖项。在美国TechInsights全球客户满意度调查中，中微公司连续多年排名位居前列。2023年，公司荣获“上海市科技进步一等奖”，并还多次入选福布斯中国最具创新力企业50强榜单。公司高度重视技术创新与知识产权保护，在产品开发过程中始终坚持“为技术的创新、设备的差异化和IP保护而开发”的企业文化。截至2024年6月，公司累计申请专利已达2648项，已获授权专利1670项，其中发明专利占比高达85.87%。此外，公司两次荣获“中国专利金奖”，多次荣获“中国专利优秀奖”、“上海市发明创造专利奖”和“上海市知识产权创新奖”等奖项。如今，中微公司已成为中国国内半导体设备的领先企业，也是国际半导体设备产业冉冉升起的一颗新星。
当前，中微公司在刻蚀设备、薄膜沉积设备、MOCVD设备等领域均取得了显著成就。在刻蚀设备方面，凭借行业首创的刻蚀设备双台机技术，中微公司率先提出“皮米级”加工精度概念，其刻蚀精度已经达到100“皮米”以下水平，相当于头发丝350万分之一的精准度，并且产品具备刻蚀应用覆盖丰富等优势，能够满足90%以上的刻蚀应用需求，技术能力已覆盖5纳米及以下更先进水平。中微公司刻蚀设备市场占有率持续提升，不断收到领先客户的批量订单。
中微公司持续加码创新研发，在半导体薄膜沉积设备领域也不断突破，推出了Preforma Uniflex#174; CW、Preforma Uniflex#174; HW、Preforma Uniflex#174; AW等多款新产品以满足市场需求，为公司业务多元化发展提供了强劲的增长动能。此外，公司新开发的硅和锗硅外延EPI设备、晶圆边缘Bevel刻蚀设备等多款新产品，也会在近期投入市场验证。
在MOCVD设备方面，中微公司自推出第一代MOCVD设备PRISMO A7#174;以来，不断丰富产品线且快速升级迭代，目前在Mini LED等氮化镓基设备领域，中微公司的市场占有率稳居前列，并持续开发用于氮化镓、碳化硅等功率器件及Micro-LED器件制造的MOCVD设备。此外，中微公司还通过投资布局了第四大设备市场——光学检测设备。
在集成电路产业飞速发展的浪潮中，中微公司以高端半导体设备为核心，坚持技术的创新、产品的差异化和知识产权的保护，不断开发具有市场竞争力的设备；同时，中微公司将整合产业链上下游和相关资源作为另一发力点，积极考虑投资和并购，推动公司更快发展。预计未来五到十年，中微公司将通过自主研发以及携手行业合作伙伴，覆盖集成电路关键领域50%至60%的设备。
随着临港产业化基地的全面投入使用，中微公司的未来发展蓝图正徐徐展开。2023年7月，14万平方米的中微公司南昌生产研发基地落成并投入使用；目前，位于滴水湖畔的中微临港总部暨研发大楼也正在建设中，建成后占地面积约10万平方米。未来，中微公司的生产和研发基地总面积将达到约45万平方米，为今后的大发展夯实基础。
此外，中微公司也在全球多点布局，汇聚研发势能。目前，中微公司的客户遍布中国大陆和中国台湾、新加坡、韩国、德国、意大利等10多个国家和地区，在全球范围内拥有2000多名员工，其中研发人员占比接近半数。
未来，中微公司将继续秉持“攀登勇者，志在巅峰”的精神，践行“四个十大”的企业文化，深入推进三维发展战略，持续提升综合竞争力，在技术进步、业务发展、业绩增长、规范治理等方面不断提高水平，实现高速、稳定、健康和安全的发展，为客户和市场提供性能优越、高生产效率和高性价比的设备解决方案，为全球半导体行业的发展作出更大的贡献。
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